黑科技进修手册（重生）——木兮娘(74)
盛明安和沈问冰谈完具体的细节以及一些arf光刻胶技术难点的看法后，离开甬城,回到津市,而沈问冰就arf光刻胶及配套材料研发项目收集资料,准备申请立项，估计通过几率很高。
高端光刻胶及配套材料的研发和产业化本来就在国家02专项项目里，按前世轨迹,arf光刻胶（193nm光刻胶）将在三年后由南大光电申请通过立项，获得国家科研基金资助，于立项后的两年内完成验收。
现在盛明安介入，也只是提前让arf光刻胶被研发出来，研发团队和专项所属权仍然属于原主。
盛明安完成初步战略部署后，马不停蹄赶回蓝河科技研发部准备光源系统的研发，几乎没有停下来喘口气的机会。
不只是他,整个蓝河科技所有人都像陀螺似的忙得晕头转向。
系统好奇盛明安为什么不自己独立攻破光刻机所有核心技术？
他有前世的记忆，他熟知光刻机几十上百项核心技术，足以轻而易举的攻破,而不必像现在这样全国四处寻找科研团队，费尽口舌说服他们跟蓝河科技合作。
如果盛明安一个人研发出光刻机,所有专利都将属于他。
专利带来的财富和名誉源源不断,国内任何一家科技公司想为他生产制造光刻机的材料譬如晶圆、光刻胶或者双工作台,都得花钱从他手中买下生产这些材料的专利费用,更别提之后完成的高阶光刻机。
甚至他能够直接毕业，学校为他开绿灯，说不定还会给他一个国家院士和名誉教授。
这真不是开玩笑的！
光刻机的地位就是如此重要！
而且只要盛明安攻破这些技术难题，再交由蓝河科技研发部完善,他们也不用跟着他这么大费周章的为革芯的未来铺路。
系统很好奇，于是这么问出口。
盛明安正在设计复杂的光源系统，闻言愣了下，回头看了眼身后忙碌的团队。
右手边的助手是个戴眼镜的年轻姑娘，注意到盛明安的目光便轻声问：老板，您想来杯黑咖啡吗？
姑娘刚走出学校的实验室没多久，还习惯喊团队领导老板。
盛明安：倒点浓茶就行。
姑娘起身，拿起他桌边的杯子就去倒茶水了。
系统：【宿主，是我问你。】
盛明安揉着太阳穴，感觉草稿本的字有点花，不知道是太疲惫还是有近视的风险，他前世长期伏案写算因此轻度近视。
嗯。
系统催促：【宿主？】
盛明安思索片刻，在姑娘倒了浓茶过来时轻声回谢谢，便在脑海里回答系统：不是我的东西。
就是很简单的理由，那不是他的东西，就算前世学过的那些攻破技术难点的知识现在属于他，可是被创造出来的技术不属于他。
而光刻机固然重要，却不到火烧眉头的地步，不需要抢夺原该属于他人的运道。
他说：为什么问我这个问题？
系统：【因为我不理解。】
盛明安：你不该比我更了解吗？
系统：【？】
盛明安：你没有发现？黑科技程序给出的每一道关卡，看似是未来的黑科技，实则基础建立在过去物理伟人的理论和发现，只不过程序将它们归纳起来激发了我的灵感。
连续破解两道关卡后，盛明安才看透黑科技程序的套路，无论是关卡还是所谓奖励要么只是告诉他一道答案本来就是必然的结果，要么给了似是而非的所谓提醒，他再根据这些已有的提醒和前人的结论不断深思、追寻和解锁，才得出属于他的成果。
盛明安不知道前世没有他，除了光刻机之外，量子纠错的算法、拍瓦级激光系统方案究竟会是谁解决。
他有些好奇，于是问出来。
系统：【不知道。】
盛明安：？
系统：【记录被销毁了。】
盛明安：记录没销毁前，你也不知道？
系统：【不记得。】
系统也发现问题，它启动自检程序，从外到内全面搜索。
盛明安喝了杯浓茶，眼中若有所思。
***
蓝河科技的每个人都很忙，研发部更是忙得脚不沾地，作为研发部副部长的计海因为被策反而当了商业间谍，人生头一次这么积极来上班，却也是每天都在办公室里喝茶看报。
偶然一天发现研发部突然忙碌起来，计海警觉，以为有了新动作，赶紧喊杜颂进来问话：研发部是不是有了什么新突破？姓陈的小子和他那个小白脸情夫最近忙什么？
上次塞给杜颂一张存有十万的银行卡，杜颂没还回来，计海默认他是自己人，这会问话毫无顾忌。
杜颂想起陈惊璆的叮嘱，如果计海问话就透露点消息，让他带给郑河。
研发部在盛神带领下准备攻破光源系统的核心技术问题，项目已经开启了。杜颂如实说：林工忙着带领团队设计芯片，至于陈总，好像在洽谈合作、投资之类的。
计海有点懵，这说了跟没说有区别？
进度呢？
什么进度？
核心技术？合作投资的项目？！
那我哪知道！
你！
计海觉得自己不该找杜颂这个蠢货，他忍下怒气小声劝说：我跟鸿芯那边说了，人家表示很欢迎技术人才。你要是想通了，带点研发部那边的资料去见郑总。
杜颂含糊：我再想想。
计海心里想别的，没多劝，摆手让他出去，回头翘班去找郑河将杜颂提供的情报交过去，换来郑河的冷笑。
蓝河科技一直双担ic设计和光刻机的光源系统制造，业界内都知道的消息！林成建的身份，我早查清了！陈惊璆四处拉投资、找合作，到处碰壁，你以为我不知道？！郑河有些愤怒：你耍我？！
计海擦着额头冒出的冷汗，慌乱否认：不不不是
郑河重重冷哼，审度计海的目光如刀片般，似乎对计海的才能产生了怀疑：那些科研成果真是你的？
计海连连点头：当然都是我的！郑总，您说我一个搞科研的，怎么做得来内应这种事？
如果不是科研人员大多非长袖善舞，郑河早踹开计海了。
虽然你搜来的消息都没用，不过这也说明蓝河科技最近确实处境艰难。郑河脸色缓和了些，冷笑着说：蓝河科技拉不到投资，革芯项目没人看好，陈惊璆居然不想办法解决迫在眉睫的资金问题，而是跑去各个研究团队找他们合作攻破光刻机技术！
哈哈哈哈郑河摇头，上下摇晃着食指嘲讽：蠢！天真！果然还是太年轻！技术是核心没错，但这么做就是缘木求鱼！
攻破核心技术哪有那么容易？
那些科研团队从立项到拿到资金再到解决关键技术问题并实现产业化，可都不是一朝一夕的事！
陈惊璆以为就他聪明、就他们想到这个联合技术链的办法？
单说那个光刻机双工作台的核心技术，11年获得国家02专项立项至今，思念过去了还没出结果。
技术攻破首要是资金，没有资金学人开什么公司？做什么技术开发？
凭那么点天真热血的冲动想法而忽略了脚下不牢靠的基石，太蠢了。
郑河如是冷漠傲慢的想着，打发走计海，将消息简单汇报给陈天鹤。
陈天鹤正从私人专机上下来，落到美国的土地上。
陈惊璆的事以后不用跟我说。陈天鹤冷漠的说。
他抬头观看这座灯火通明的城市
加利福尼亚州圣迭戈市，高通总部。
陈天鹤此行的目的。
***
光源系统是光刻机制造的核心，是晶圆光刻工程的起始步，与光刻工程后续每一步息息相关。
光源系统主要三大单元是光的产生、收集和均一化，初代光刻机的光源系统还包括光的纯化，但第四代、第五代的激光器产生的光源已经达到要求，只需要让光均匀化就行。
光是雕刻的工具，由激光器产生，涉及三项技术指标即光刻分辨率、套刻精度和产能。
光刻分辨率有一道计算公式，照公式调整影响因数从而提高光刻分辨率，这方面难度不大，但是受掩膜设计、抗蚀剂工艺等牵制，必须同时达到最佳化才能实现理想的光刻分辨率。
套刻精度与光刻分辨率相关，直接受其影响。
至于产能，则与光源系统的稳定相关。
以上是对激光器的要求，相对整个光源系统的技术要求不算高，系统工程程序中最难的步骤是光的收集。
收集难度大，转化效率也低。
雷客坐在电脑前，操纵鼠标在软件里做精密的计算：所需的极紫外光必须在真空下进行反射，不能被折射，因为它非常容易被吸收。真空腔内的反射镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源一路引导到晶圆经过十几次反射，最终剩下的光线不到2%！
围观过来的研发部成员倒吸一口凉气，虽早知光源转化率低，但听到这数字还是低得让他们心疼。
光源转化率低就意味着能量的巨大消耗，最直观的例子，一台euv机器输出功率两百瓦左右，工作一天，耗电三万度。
光线利用率不到2%已经是优化其他性能所能够得到的最佳数据，决定该性能优化的决定性关键就是反射镜的精度。
精度必须以皮秒来计算。
换句话说，光刻机所需的反射镜精度必须打磨到万亿分之一米。
盛明安：用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。
当下有人反驳：都是纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了！
难度多大？
最浅显易懂的比喻便是将一面直径不超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地面，其平面起伏不能超过一根头发的直径。
而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平面精度一层比一层要求更平整。
全球只有德国蔡司这家传承三代以上的企业才造得出这种反射镜。
当然，反射镜不对华出口。
盛明安：不用担忧反射镜能不能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。
数据、模型，不管失败成功，统统记录下来。
盛明安语速打机关枪似的，斩钉截铁、不容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有序，所有的技术难点都可以被轻松解决。
他胸有成竹，心有沟壑。
他不必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个人退怯、不自信的心。
杜颂，打开你的modelica先进行初步的超精密激光器建模仿真。
modelica是一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。
杜颂：已在创建。
他领着自己小组成员低头忙碌。
雷客，你调整一下光路结构。
好。雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果计算查找表修正光与图案。
盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。
驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个技术节点消耗的功率和产能其实日前最先进的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个问题。
可盛明安不清楚。
他虽不愿用前世记忆盗窃他人成果提前制造出国产光刻机，可前世是他完美解决euv产能低的问题，因此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之一。
以至于后来一举攻破该技术节点实现反超asml目标，实属意料之外。
***
15年5月份左右，国际半导体发生了一件大事。
asml官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14nm极紫外光刻机！
此举瞬间激起千层浪，全球各界媒体报道不休，半导体发烧友热闹得跟过年一样纷纷发表讨论。国内贴吧、技术论坛和逼乎新帖不断，基本都是讨论asml这一举措将带来怎么的影响。
【光刻巨人：asml真正的崛起！】
恋耽美
高端光刻胶及配套材料的研发和产业化本来就在国家02专项项目里，按前世轨迹,arf光刻胶（193nm光刻胶）将在三年后由南大光电申请通过立项，获得国家科研基金资助，于立项后的两年内完成验收。
现在盛明安介入，也只是提前让arf光刻胶被研发出来，研发团队和专项所属权仍然属于原主。
盛明安完成初步战略部署后，马不停蹄赶回蓝河科技研发部准备光源系统的研发，几乎没有停下来喘口气的机会。
不只是他,整个蓝河科技所有人都像陀螺似的忙得晕头转向。
系统好奇盛明安为什么不自己独立攻破光刻机所有核心技术？
他有前世的记忆，他熟知光刻机几十上百项核心技术，足以轻而易举的攻破,而不必像现在这样全国四处寻找科研团队，费尽口舌说服他们跟蓝河科技合作。
如果盛明安一个人研发出光刻机,所有专利都将属于他。
专利带来的财富和名誉源源不断,国内任何一家科技公司想为他生产制造光刻机的材料譬如晶圆、光刻胶或者双工作台,都得花钱从他手中买下生产这些材料的专利费用,更别提之后完成的高阶光刻机。
甚至他能够直接毕业，学校为他开绿灯，说不定还会给他一个国家院士和名誉教授。
这真不是开玩笑的！
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而且只要盛明安攻破这些技术难题，再交由蓝河科技研发部完善,他们也不用跟着他这么大费周章的为革芯的未来铺路。
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盛明安正在设计复杂的光源系统，闻言愣了下，回头看了眼身后忙碌的团队。
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盛明安：倒点浓茶就行。
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盛明安揉着太阳穴，感觉草稿本的字有点花，不知道是太疲惫还是有近视的风险，他前世长期伏案写算因此轻度近视。
嗯。
系统催促：【宿主？】
盛明安思索片刻，在姑娘倒了浓茶过来时轻声回谢谢，便在脑海里回答系统：不是我的东西。
就是很简单的理由，那不是他的东西，就算前世学过的那些攻破技术难点的知识现在属于他，可是被创造出来的技术不属于他。
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盛明安：你不该比我更了解吗？
系统：【？】
盛明安：你没有发现？黑科技程序给出的每一道关卡，看似是未来的黑科技，实则基础建立在过去物理伟人的理论和发现，只不过程序将它们归纳起来激发了我的灵感。
连续破解两道关卡后，盛明安才看透黑科技程序的套路，无论是关卡还是所谓奖励要么只是告诉他一道答案本来就是必然的结果，要么给了似是而非的所谓提醒，他再根据这些已有的提醒和前人的结论不断深思、追寻和解锁，才得出属于他的成果。
盛明安不知道前世没有他，除了光刻机之外，量子纠错的算法、拍瓦级激光系统方案究竟会是谁解决。
他有些好奇，于是问出来。
系统：【不知道。】
盛明安：？
系统：【记录被销毁了。】
盛明安：记录没销毁前，你也不知道？
系统：【不记得。】
系统也发现问题，它启动自检程序，从外到内全面搜索。
盛明安喝了杯浓茶，眼中若有所思。
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蓝河科技的每个人都很忙，研发部更是忙得脚不沾地，作为研发部副部长的计海因为被策反而当了商业间谍，人生头一次这么积极来上班，却也是每天都在办公室里喝茶看报。
偶然一天发现研发部突然忙碌起来，计海警觉，以为有了新动作，赶紧喊杜颂进来问话：研发部是不是有了什么新突破？姓陈的小子和他那个小白脸情夫最近忙什么？
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杜颂想起陈惊璆的叮嘱，如果计海问话就透露点消息，让他带给郑河。
研发部在盛神带领下准备攻破光源系统的核心技术问题，项目已经开启了。杜颂如实说：林工忙着带领团队设计芯片，至于陈总，好像在洽谈合作、投资之类的。
计海有点懵，这说了跟没说有区别？
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什么进度？
核心技术？合作投资的项目？！
那我哪知道！
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杜颂含糊：我再想想。
计海心里想别的，没多劝，摆手让他出去，回头翘班去找郑河将杜颂提供的情报交过去，换来郑河的冷笑。
蓝河科技一直双担ic设计和光刻机的光源系统制造，业界内都知道的消息！林成建的身份，我早查清了！陈惊璆四处拉投资、找合作，到处碰壁，你以为我不知道？！郑河有些愤怒：你耍我？！
计海擦着额头冒出的冷汗，慌乱否认：不不不是
郑河重重冷哼，审度计海的目光如刀片般，似乎对计海的才能产生了怀疑：那些科研成果真是你的？
计海连连点头：当然都是我的！郑总，您说我一个搞科研的，怎么做得来内应这种事？
如果不是科研人员大多非长袖善舞，郑河早踹开计海了。
虽然你搜来的消息都没用，不过这也说明蓝河科技最近确实处境艰难。郑河脸色缓和了些，冷笑着说：蓝河科技拉不到投资，革芯项目没人看好，陈惊璆居然不想办法解决迫在眉睫的资金问题，而是跑去各个研究团队找他们合作攻破光刻机技术！
哈哈哈哈郑河摇头，上下摇晃着食指嘲讽：蠢！天真！果然还是太年轻！技术是核心没错，但这么做就是缘木求鱼！
攻破核心技术哪有那么容易？
那些科研团队从立项到拿到资金再到解决关键技术问题并实现产业化，可都不是一朝一夕的事！
陈惊璆以为就他聪明、就他们想到这个联合技术链的办法？
单说那个光刻机双工作台的核心技术，11年获得国家02专项立项至今，思念过去了还没出结果。
技术攻破首要是资金，没有资金学人开什么公司？做什么技术开发？
凭那么点天真热血的冲动想法而忽略了脚下不牢靠的基石，太蠢了。
郑河如是冷漠傲慢的想着，打发走计海，将消息简单汇报给陈天鹤。
陈天鹤正从私人专机上下来，落到美国的土地上。
陈惊璆的事以后不用跟我说。陈天鹤冷漠的说。
他抬头观看这座灯火通明的城市
加利福尼亚州圣迭戈市，高通总部。
陈天鹤此行的目的。
***
光源系统是光刻机制造的核心，是晶圆光刻工程的起始步，与光刻工程后续每一步息息相关。
光源系统主要三大单元是光的产生、收集和均一化，初代光刻机的光源系统还包括光的纯化，但第四代、第五代的激光器产生的光源已经达到要求，只需要让光均匀化就行。
光是雕刻的工具，由激光器产生，涉及三项技术指标即光刻分辨率、套刻精度和产能。
光刻分辨率有一道计算公式，照公式调整影响因数从而提高光刻分辨率，这方面难度不大，但是受掩膜设计、抗蚀剂工艺等牵制，必须同时达到最佳化才能实现理想的光刻分辨率。
套刻精度与光刻分辨率相关，直接受其影响。
至于产能，则与光源系统的稳定相关。
以上是对激光器的要求，相对整个光源系统的技术要求不算高，系统工程程序中最难的步骤是光的收集。
收集难度大，转化效率也低。
雷客坐在电脑前，操纵鼠标在软件里做精密的计算：所需的极紫外光必须在真空下进行反射，不能被折射，因为它非常容易被吸收。真空腔内的反射镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源一路引导到晶圆经过十几次反射，最终剩下的光线不到2%！
围观过来的研发部成员倒吸一口凉气，虽早知光源转化率低，但听到这数字还是低得让他们心疼。
光源转化率低就意味着能量的巨大消耗，最直观的例子，一台euv机器输出功率两百瓦左右，工作一天，耗电三万度。
光线利用率不到2%已经是优化其他性能所能够得到的最佳数据，决定该性能优化的决定性关键就是反射镜的精度。
精度必须以皮秒来计算。
换句话说，光刻机所需的反射镜精度必须打磨到万亿分之一米。
盛明安：用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。
当下有人反驳：都是纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了！
难度多大？
最浅显易懂的比喻便是将一面直径不超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地面，其平面起伏不能超过一根头发的直径。
而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平面精度一层比一层要求更平整。
全球只有德国蔡司这家传承三代以上的企业才造得出这种反射镜。
当然，反射镜不对华出口。
盛明安：不用担忧反射镜能不能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。
数据、模型，不管失败成功，统统记录下来。
盛明安语速打机关枪似的，斩钉截铁、不容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有序，所有的技术难点都可以被轻松解决。
他胸有成竹，心有沟壑。
他不必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个人退怯、不自信的心。
杜颂，打开你的modelica先进行初步的超精密激光器建模仿真。
modelica是一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。
杜颂：已在创建。
他领着自己小组成员低头忙碌。
雷客，你调整一下光路结构。
好。雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果计算查找表修正光与图案。
盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。
驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个技术节点消耗的功率和产能其实日前最先进的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个问题。
可盛明安不清楚。
他虽不愿用前世记忆盗窃他人成果提前制造出国产光刻机，可前世是他完美解决euv产能低的问题，因此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之一。
以至于后来一举攻破该技术节点实现反超asml目标，实属意料之外。
***
15年5月份左右，国际半导体发生了一件大事。
asml官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14nm极紫外光刻机！
此举瞬间激起千层浪，全球各界媒体报道不休，半导体发烧友热闹得跟过年一样纷纷发表讨论。国内贴吧、技术论坛和逼乎新帖不断，基本都是讨论asml这一举措将带来怎么的影响。
【光刻巨人：asml真正的崛起！】
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